- 技術訊息 -
02.Jun.2009
X-ray螢光-XRF 無鹵材料控管的建議
因應Apple、Dell、Hp等公司的無鹵材料需求，及IPC的電路板行業標準，Br和Cl的900ppm濃度標準已被定為行規。
但檢測方法一般有兩種分別是作為screen掃描的XRF及精確分析的IC離子層析。
|
|
XRF
|
IC
|
|
優點
|
檢測速度快(5min)，不用前處理
|
精準測試
檢測下限低
|
|
用途
|
快速掃描分析用
|
實驗室用
定量分析
|
|
缺點
|
檢測下限高，基質影響大
|
需前處理
|
|
檢測下限
|
50~200ppm
|
ppb
|
|
誤差來源
|
基質及能譜干擾問題
|
樣品燃燒程度
|
建議要求無鹵標準根據Cl < 900ppm ; Br <900ppm ; Cl+Br < 1500ppm
QC Inspector的無鹵分析檢測下限約在Cl:150~200 ppm ; Br: 1 ppm對於一般材料做無鹵素分析完全沒有問題，但對於一些特殊狀況或材料，並非就XRF可以解決，此時IC離子層析會是唯一選擇。例如電子行業或半導體內的很多化學材料或溶液，需控管Cl離子在50ppm以內，50ppm的濃度已低於目前XRF的檢測能力，如可以測試也太接近檢測下限，定量準確度不佳，此時必須選擇IC來作IC離子層析控管，另外如一些材料如銀膠或銀漿，其內部含有高濃度的Ag，Ag金屬會吸收氯產生的瑩光，而且銀的能譜能量太接近Ar及Cl，一般銀膠或銀漿中的銀比例都很高約有40~80%的銀，XRF中的Ag，能譜訊號很大會將Cl的檢測下限提高很多，造成此種材料Cl檢測下限很高，此類材料則以IC測試較為適合。
若有任何技術問題或產品需求，歡迎與我們聯絡!
(TEL: 02-89901580
TechMark Web Site: www.techmark-asia.com
TechMark Web Site: www.techmark-asia.com
其他相關訊息
-
15.Jan.2024X-ray螢光-XRF 移動式膜厚鍍層分析(XRF Coating)
-
17.Jul.2023X-ray螢光-XRF 八大貴金屬分析的新工具：Vanta GX
-
12.Jun.2023停電不驚慌 精密儀器護身符-不斷電系統UPS
