- 技術應用 -
09.Jun.2025
X-ray螢光-XRF 即時電鍍液元素分析：Vanta iX線上型XRF提升製程穩定性
電鍍液成分變動快速，傳統人工分析已難即時應變，在高精密、高效率的現代製造業中，製程控制的反應速度與準確性，決定了產品良率與企業獲利。尤其在電鍍與電子產業，對元素濃度、鍍層比例與有害物質的控管要求越來越嚴苛。 電鍍液成分變動快速，傳統人工分析已難即時應變。這正是 Vanta iX 線上型XRF 分析儀展現即時監控優勢的絕佳時機。透過非破壞性、免試劑、無需採樣的元素分析能力，Vanta iX 成為電鍍液體與電子組件製程監控的重要利器。
Vanta iX 是什麼？
Vanta iX 是 Olympus（Evident）開發的線上型X射線螢光分析儀，專為固定式與自動化應用打造，具備：
- 高靈敏度矽漂移偵測器（SDD），實現精準分析鎂Mg-鈾U中的元素含量。
- 堅固耐用、符合IP54工業等級防護。
- 支援即時資料輸出介面（Modbus、Ethernet、I/O等）。
- 輕鬆整合產線、機械手臂或自動化檢測站。
▲圖一 線上型Vanta iX XRF提供即時分析最佳的解決方案
◆ 應用一 : 電鍍液體製程監控（Ni、Zn/Ni、Ni/P）在電鍍產業中，電鍍液成分組成的變動會直接影響鍍層品質與最終產
品的機械特性。傳統化學分析需人工採樣、稀釋與滴定，耗時且依賴人員技術，難以應對即時製程調整的需求。
【Vanta iX 解決方案優勢】
✅ 耐磨性與耐刮性提升：緊密交聯的網狀結構提升材料的硬度，使膜層能夠抵抗外力刮擦與磨損。
✅ 附著力提升：高熱焓代表化學反應更加完整，促使膜層與基材表面形成更強的化學鍵或凡德瓦力，使附著力更強。
【實際案例】
固化時間是指材料從液態轉變為固態的過程所需時間，反映了化學反應進行的速率與完整性。
- 每 10 分鐘自動檢測一次電鍍液成分。
- 當鎳（Ni）濃度偏離設定值時，自動觸發補加系統進料。
- 後端可與電導率與pH感測器整合，建立全方位製程控制系統。
使得Out-of-spec工件減少95%，鍍層厚度CV值控制於±5%內，最終該年即省下實驗室分析與人力約新台幣百萬元以上。
▲圖二 線上型Vanta iX XRF應用於電鍍液元素監控
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