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FT150
伴隨光學系的升級,實現相比以往機型更高的靈敏度
對應nm級Au鍍層及數十nm Pd鍍層測量效率提升2倍以上
FT150L
對應600 mm×600 mm 大型線路板
配備防X射線洩漏的封閉結構樣品室
FT150H
對應微區Sn、Ag等鍍層測量
對應陶瓷電子元件端子、Sn-Ag無鉛焊錫等
FT150配備新型聚光光學系和更高規格的Vortex檢測器,能夠得到比以往機型更高強度的X射線螢光。
相比以往機型(FT9500X系列),對應微小金屬鍍層測量的效率提高2倍以上,在相同的測量時間下能夠提高其測量精度。
實現高精度並且高效的測量。
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項目 |
描述 |
X射線照射方向 |
上方照射式 |
上方照射式 |
Al (13) ~ U(92) |
測定環境 |
大氣 |
X射線發生部 |
45kV, 鉬Mo 靶材 |
設計 |
毛細管聚焦Poly-capillary |
管電流 |
最大1000μA 可變 |
X射線檢測部 |
Silicon Drift Detector (SDD) |
測定面積 |
φ0.030mm(FWHM 0.017mm) |
最大樣品面積 |
長400mm、寬300mm、高200mm |
電動XY樣品台驅動 移動範圍 |
400×300mm |
CCD Camera |
1百萬相數 |
對焦模式 |
雷射自動對焦 |
測量模式 |
Thin Film FP (5層, 10元素)/檢量線法 |
選配 |
FT150H : 鎢W target
FT150L : 鉬Mo target |