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28.Aug.2025

高解析顯微鏡 雙光源系統搭配共軛焦光學:讓成像解析度更佳

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雙光源系統搭配共軛焦光學:讓成像解析度更佳


一、什麼是雙光源系統?
雙光源是指結合白光與雷射兩種光源於同一顯微鏡系統中。白光源提供全波段的波長範圍,適合觀察樣品的表面結構與色彩細節;雷射光源則具備單色性好、強度高與方向性佳的特性,適合進行螢光激發與共軛焦成像。雙光源系統優勢在於靈活切換觀察模式,兼顧表面成像品質與解析深層結構。


二、什麼是共軛焦光學?
(1)當光源的光聚焦樣品表面時,反射光同時也聚焦在偵測器上;此時反射光能被針孔光圈偵測並且通過光圈。但若光未聚焦在樣品表面時,則大部分的光均會被針孔光圈擋住,則無法進入偵測器。(圖1)
(2)共軛焦與非共軛焦的成像差異。(圖2)
(3)依偵測到聚焦位置的反射光(IZ曲線),實現高Z軸解析度。(圖3)

因此,共軛焦光學只會偵測聚焦平面的反射光,能夠有效排除背景光的干擾,提升影像清晰度。


pic_1▲圖一  共軛焦光線示意圖

 



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▲圖二  共軛焦成像



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▲圖三  IZ曲線



三、成像解析度更佳-以Lasertec 型號OPTELICS HYBRID+為例


1. 3D輪廓量測(3D Profile Analysis)

奈米壓印樹脂模具可量測到45奈米的高低落差。


pic_4.5▲圖四 奈米壓印樹脂模高低落差量測



2. 亮度輪廓量測(Brightness profile analysis)

擷取圖案線條的亮度數據,建構亮度輪廓圖進行量測;適用半導體圖案極小高度差的樣品。


pic_4▲圖五 亮度輪廓圖量測


3.平面量測

微米等級量測條件下,針對印刷電路板上的高密度銅線測量線寬、線距、角度、圓度等幾何參數。


pic_6▲圖六  電路板銅線量測


4.量測高度差

小於1μm高低差的量測條件下,針對TFT彩色濾光片基板測量彩色濾光層膜厚均勻性、黑矩陣高度、表面平整度。


pic_7▲圖七  TFT彩色濾光片基板膜厚量測

 


5.XZ截面測量膜厚(XZ cross sectional measurement)

以PI薄膜表面與透明樣品界面之間的測量距離,計算出薄膜厚度。


pic_8▲圖八 PI薄膜厚度量測

 

 

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