高解析顯微鏡 雙光源系統搭配共軛焦光學:讓成像解析度更佳

雙光源系統搭配共軛焦光學:讓成像解析度更佳
一、什麼是雙光源系統?
雙光源是指結合白光與雷射兩種光源於同一顯微鏡系統中。白光源提供全波段的波長範圍,適合觀察樣品的表面結構與色彩細節;雷射光源則具備單色性好、強度高與方向性佳的特性,適合進行螢光激發與共軛焦成像。雙光源系統優勢在於靈活切換觀察模式,兼顧表面成像品質與解析深層結構。
二、什麼是共軛焦光學?
(1)當光源的光聚焦樣品表面時,反射光同時也聚焦在偵測器上;此時反射光能被針孔光圈偵測並且通過光圈。但若光未聚焦在樣品表面時,則大部分的光均會被針孔光圈擋住,則無法進入偵測器。(圖1)
(2)共軛焦與非共軛焦的成像差異。(圖2)
(3)依偵測到聚焦位置的反射光(IZ曲線),實現高Z軸解析度。(圖3)
因此,共軛焦光學只會偵測聚焦平面的反射光,能夠有效排除背景光的干擾,提升影像清晰度。
▲圖一 共軛焦光線示意圖

▲圖二 共軛焦成像

▲圖三 IZ曲線
三、成像解析度更佳-以Lasertec 型號OPTELICS HYBRID+為例
1. 3D輪廓量測(3D Profile Analysis)
奈米壓印樹脂模具可量測到45奈米的高低落差。
▲圖四 奈米壓印樹脂模高低落差量測
2. 亮度輪廓量測(Brightness profile analysis)
擷取圖案線條的亮度數據,建構亮度輪廓圖進行量測;適用半導體圖案極小高度差的樣品。
▲圖五 亮度輪廓圖量測
3.平面量測
微米等級量測條件下,針對印刷電路板上的高密度銅線測量線寬、線距、角度、圓度等幾何參數。
▲圖六 電路板銅線量測
4.量測高度差
小於1μm高低差的量測條件下,針對TFT彩色濾光片基板測量彩色濾光層膜厚均勻性、黑矩陣高度、表面平整度。
▲圖七 TFT彩色濾光片基板膜厚量測
5.XZ截面測量膜厚(XZ cross sectional measurement)
以PI薄膜表面與透明樣品界面之間的測量距離,計算出薄膜厚度。
▲圖八 PI薄膜厚度量測
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