- 技術應用 -
22.Jan.2026
X-ray螢光-XRF Hitachi EA1400 XRF：精準分析化學鍍鎳膜的磷含量與厚度，提升製程品質
Hitachi EA1400 XRF：精準分析化學鍍鎳膜的磷含量與厚度，提升製程品質
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▲ 圖一 Hitachi EA1400 XRF 螢光元素分析儀 |
- XRF條件：管電壓 50 kV，自動管電流，膠準器 Φ1 mm，無主濾波片，測量時間 100 秒。
- 氣氛：大氣環境與真空環境。
- 分析方法：薄膜 FP (Fundamental Parameter) 法。
- 分析元素線：Ni Kα, P Kα, Cu Kα, Fe Kα。
二、分析結果
▲圖二 在大氣和真空環境中進行的分析結果，時間為100秒，測試次數20
- 厚度測量
o Cu/Ni-P 樣品：測得平均值約 11.1 μm，與標準值 11.29 μm 接近，誤差 ~2%。
o Fe/Ni-P 樣品：測得平均值約 9.89 μm，標準值 10.37 μm，誤差 ~5%。
- 磷濃度測量
o Cu/Ni-P 樣品：標準值 9.1 wt%，測得值 9.3–9.37 wt%，精度約 103%。
o Fe/Ni-P 樣品：標準值 9.9 wt%，測得值 9.88–9.97 wt%，精度約 100–101%。
- 精度比較 (RSD, 相對標準偏差)
o 厚度測量：RSD < 0.2%（非常穩定）
o 磷濃度：在真空下 RSD < 0.5%，優於大氣條件下的 ~1.3%
EA1400比較真空環境和大氣環境的P訊號感度差異
▲圖三 Hitachi EA1400 比較真空環境和大氣環境的磷（P）訊號感度差異
三、結論
- EA1400 能同時測量 Ni-P 鍍層厚度與磷含量，且在 100 ± 5% 精度範圍內。
- 真空環境能提升磷測量的靈敏度與精度，適合需要嚴格控制磷含量的應用場合。
- 這些測量方法對於 汽車、精密機械、電子、航太、食品製造等領域 的電鍍品質管理具有實用價值。
▲圖四 Hitachi EA1400 XRF螢光元素分析儀
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