- 技術應用 -
25.Feb.2016
X-ray螢光-XRF XRF光管電壓與電流在實際測試上的差異
XRF是目前針對材料中的元素成分分析的一種常用設備，一般普遍的應用有；RoHS分析、無鹵素分析、金屬合金分析、土壤重金屬分析、玩具中的鉛含量分析、礦物土壤的成分分析…等，只要是需要分析元素成分的比例、含量都可以透過XRF進行分析比對。
而目前XRF的使用者大多不清楚X光管對於檢測的重要性，以及在使用上到底應該如何調整測試條件已達到最佳的分析效果，接下來就說明XRF在使用上需要注意的地方。
首先XRF針對的元素進行分析，而判斷的方式是透過能量位置進行定性（詳細XRF原理，請參考” RoHS檢測設備XRF的技術原理”），所以當我們需要激發目標元素時，我們一般需要調整到該元素分析能量的1.5~2倍電壓，如下圖一所示：
圖一 Cd元素分析能量
Cd元素的分析能量位置為Ka 23.108 keV，Kb 26.084keV，而建議的激發電壓約為元素能量的1.5~2倍，所以不管是40kV or 50kV對於Cd的分析都可以執行，由圖二可以知道當我們使用15kV的電壓去激發能量位置超過10keV，基本上已經無明顯的效果，所以對於元素分析時電壓的選擇也是一門很重要的學問。
圖二 15kV(空白) VS 50kV(黑色)的能譜差異
而電流對於我們在分析時的差別在哪?一般而言光管電流決定元素的激發強度，同一個樣品分別使用100uA & 1000uA的電流時，激發出來的訊號強度明顯有落差(如下圖三)，當使用高電流時可以有效的將訊號的強度增強，對於高濃度的樣品可以有明顯的效果，相同的對於低濃度的分析更是有極大的幫助。
圖三 100uA與1000uA的強度差異
由此可知，電壓決定元素檢測的範圍及可否有效的激發目標元素；而電流則是決定元素的激發強度及可否檢測到低濃度的元素訊號，未來在分析時更可以有效的透過調整電壓電流去微調一些測試分析的精准度。
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